电子科技
发布者：admin
2019-07-02 03:41:23 |
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参考价格：￥起
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在电子科技领域应用水的要求都非常高，一般都是用到超纯水，符合超纯水的严格标准而经过特殊处理以便达到高效能和低TOC，出水水质都能达到18兆欧以上，以及对TOC、SIO2都有一定的控制能力。这就需要用到特定的抛光树脂来保证系统出水水质能够维持用水标准。
超纯水制备都需要到抛光树脂，抛光树脂的均匀粒径使混合床的动力学性能最大化，允许使用高工作流速以实现压降和纯度的最终平衡。其特性对于用最少量的漂洗水生产具有可达到的最高纯度的水是必不可少的。用于特殊电子应用，如磁盘驱动器，显示设备，CD-ROM，分立半导体器件，低密度IC芯片的制造，或在后端芯片切割和安装操作。由于其高水平的再生，以经济地生产高纯度水。
电子科技超纯水设备技术参数
系统产量：≥0.5T/H
系统水质：水质符合美国ASTM标准，电子工业部超纯水水质标准18MΩ•cm，15MΩ•cm，10MΩ•cm，2MΩ•cm和0.5MΩ•cm五级
电子科技超纯水设备工艺流程
1、0.5~1MΩ•cm制水工艺流程：
原水→过滤器→增压泵→一级反渗透→PH调节系统→中间水箱→二级反渗透→纯化水箱→纯水泵→用水点
2、2MΩ•cm制水工艺流程：
原水→过滤器→增压泵→一级反渗透→混床→纯水箱→纯水泵→用水点
3、10~15MΩ•cm制水工艺流程：
原水→过滤器→增压泵→一级反渗透→PH调节系统→中间水箱→二级反渗透→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→用水点
4、18MΩ•cm制水工艺流程：
原水→过滤器→增压泵→一级反渗透→PH调节系统→中间水箱→二级反渗透→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→树脂精制混床→用水点
系统产量：≥0.5T/H
系统水质：水质符合美国ASTM标准，电子工业部超纯水水质标准18MΩ•cm，15MΩ•cm，10MΩ•cm，2MΩ•cm和0.5MΩ•cm五级
电子科技超纯水设备工艺流程
1、0.5~1MΩ•cm制水工艺流程：
原水→过滤器→增压泵→一级反渗透→PH调节系统→中间水箱→二级反渗透→纯化水箱→纯水泵→用水点
2、2MΩ•cm制水工艺流程：
原水→过滤器→增压泵→一级反渗透→混床→纯水箱→纯水泵→用水点
3、10~15MΩ•cm制水工艺流程：
原水→过滤器→增压泵→一级反渗透→PH调节系统→中间水箱→二级反渗透→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→用水点
4、18MΩ•cm制水工艺流程：
原水→过滤器→增压泵→一级反渗透→PH调节系统→中间水箱→二级反渗透→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→树脂精制混床→用水点
